Наскоро AGC Group и Университетът в Токио в Япония съвместно разработиха нов метод, който дава възможност за лазерна обработка на прозрачни материали като стъкло със скорост 1 милион пъти по -бързо от конвенционалните методи. Резултатите бяха публикувани онлайн в American Scientific Journal Science Advances на 11 юни 2025 г.
През последните години, с широкото приемане на генеративен ИИ, количеството обработка на информацията продължава да се увеличава, което води до нарастващо търсене на по -бързи и повече енергия - ефективни полупроводници. Следователно, тенденцията към използване на стъклени субстрати, с тяхната отлична твърдост и плоскост, тъй като опаковките на субстратите за полупроводници стават все по -изразени.
Изображение на голям брой през - дупки, обработени върху стъклен субстрат при Ultra - висока скорост (отворена стъпка 100 микрона).
Понастоящем стъклените субстрати се обработват предимно с помощта на лазерна аблация или лазерно модифицирано офорт. Първият обаче е време -, докато вторият представя предизвикателства като високо въздействие върху околната среда поради изхвърляне на отпадни води. В това съвместно изследване, като едновременно облъчване на стъклената повърхност с два лазера с различна ширина на импулса под ъгъл, те успяха да увеличат скоростта на обработка до един милион пъти по -голям от тази на лазерната аблация. Този метод на високо - обработка на скорост на стъклени субстрати, използващи само лазери, е по -ефективен и по -малко екологичен от съществуващите методи и обещава голямо обещание за бъдещо практическо приложение в полето за полупроводникови.
