Нов напредък в изследването на широкоспектърния механизъм за увреждане на огледала с ниска дисперсия в Шанхайския институт по оптични машини
Наскоро отделът за технология и инженерство на високомощни лазерни компоненти на Шанхайския институт по оптика и прецизни машини (SIPM), Китайската академия на науките (CAS), постигна нов напредък в изследването на широкоспектърния механизъм за увреждане на ниската дисперсия огледала. Резултатите от изследването са публикувани в списание „Ултра-широкоспектърно лазерно импулсно увреждане на огледала с ниска дисперсия. Резултатите от изследването са публикувани в Optical Materials под заглавието „Ултра-широкоспектърно лазерно импулсно увреждане на ниска дисперсия огледала".
Технологията за усилване на оптичните параметрични чирпирани импулси се счита за най-обещаващото решение за реализиране на ултра-интензивни ултракъси лазери от 100 bW или дори AIW, а огледалата с ниска дисперсия са ключовите компоненти на ултра-интензивната ултракъса лазерна система за управление на посоката и предаване на енергия, обаче, има малко доклади за изследванията на повредите на огледала с ниска дисперсия под действието на 200 nm лазери от широкия спектър и механизмът на повредата все още е неясен, което е ограничило подобряването на производителността на повреда на нискодисперсионните огледала на широколентовия лазер.
Въз основа на предната оптична параметрична система за усилване на чирпирани импулси на Shanghai Extreme Light Device, изследователският екип е изградил 200nm широкоспектърна наносекундна и фемтосекундна тестова платформа за повреда и систематично провери характеристиките на повреда на широколентови огледала с ниска дисперсия при действието на широкоспектърни наносекундни и фемтосекундни импулсни лазери. Поради наличието на пространствено-времево чуруликане, широкоспектърното наносекундно увреждане показва висока степен на детерминизъм; проучва се, че защитният ефект на конвенционалната технология за защитен слой е ограничен до централната лента, докато крайният компонент на отразяващата лента предизвиква усилване на електрическото поле и способността на защитния слой да повиши прага зависи от конкурентната връзка между две роли на защитата на електрическото поле и усилването на електрическото поле; в допълнение, установено е, че термодинамичното съвпадение между материалите на мембранния слой е ключът за по-нататъшното повишаване на прага. За повреда на фемтосекундния импулс в широк спектър е конструиран изчерпателен израз на електрическо поле, съдържащ информация за спектралната ширина, за да се получат характеристиките на повреда на ултрабърз лазерен тънък филм при различни спектрални честотни ленти и съответната връзка между спектралната честотна лента и прага на увреждане на тънкия филм е установено, което предоставя теоретична подкрепа за подобряване на характеристиките на повреда на широколентовите огледала с ниска дисперсия. Проучването на широкоспектърния механизъм за увреждане ще предостави теоретична подкрепа за подобряване на производителността на широколентовото огледало с ниска дисперсия и ще постави основата за по-нататъшно подобряване на прага на увреждане на широколентовото огледало с ниска дисперсия.
Свързаната работа беше подкрепена от Ключовия проект за международно сътрудничество в областта на науката и технологичните иновации между правителствата на Китай и Италия, Националната природонаучна фондация на Китай, Асоциацията за насърчаване на младежките иновации на Китайската академия на науките и Фондацията за постдокторски науки. (Принос от отдела за технологии и инженеринг на високомощни лазерни компоненти)?
Шанхайският институт по оптика и механика (SIOM) постигна нов напредък в изследването на широкоспектърния механизъм за увреждане на огледала с ниска дисперсия.
Фигура 1 Схематична диаграма на широкоспектърна тестова платформа за повреди
Фиг. 2 Морфология на повреда на широколентово дисперсионно огледало
