Наскоро отделът за технология и инженерство на високомощни лазерни компоненти на Шанхайския институт по оптика и прецизни машини (SIPM), Китайската академия на науките (CAS), постигна нов напредък в изследването на положителни и отрицателни 1000 fs2 двойки огледала с висока дисперсия. Резултатите от изследването са озаглавени „Проектиране, производство и характеризиране на чифт положителни и отрицателни огледала с висока дисперсия за системи за усилване на чирпирани импулси“. Проектиране, производство и характеризиране на чифт положителни и отрицателни огледала с висока дисперсия за системи за усилване на чирпирани импулси" беше публикувано в Optics Express.
Огледала с висока дисперсия са били използвани като елементи за компресиране на импулси извън кухина в системи за усилване на импулси с чирпиране поради тяхното високо отражение, висока дисперсия и висока точност на компенсация на дисперсията. Огледала с висока дисперсия с по-висока компенсация на дисперсията и по-широка честотна лента могат да поддържат импулсен изход с по-тясна ширина на импулса и по-висока енергия, което може да помогне за подобряване на качеството на изхода на свръхбързи лазерни системи. Понастоящем изследването на огледала с висока дисперсия се фокусира главно върху огледала с отрицателна дисперсия, рядко се съобщава за огледала с положителна дисперсия, а огледала с положителна и отрицателна висока дисперсия могат да се използват съответно като елементи за разширяване на импулса и компресия в системи за усилване на чирпирани импулси.
Фиг. 1 Симулация на разширяване и компресия на импулса с положителни и отрицателни 1000 fs2 огледала с висока дисперсия.
Изследователският екип предложи първоначална структура на огледало с висока дисперсия за огледала MGTI (модифициран интерферометър Gires-Tournois), т.е. чрез замяна на част от отразяващия филмов слой на стандартното GTI огледало с две периодични симетрични филмови системи, така че GT кухините и симетричните кухини, съставени от симетричните филмови системи, образуват тандемна форма и след това дизайнът получава положителните и отрицателните огледала с висока дисперсия на +1000 fs2 и -1000 fs2@750-850-800 fs2, съответно. 1000fs2@750-850nm огледала с висока дисперсия. Огледалата с висока дисперсия се подготвят успешно чрез използване на технология за разпръскване с двоен йонен лъч и техните тестове за ефективност са завършени чрез комбиниране на спектрофотометър и интерферометър за бяла светлина за успешна проверка на точността на подготовка на огледала с висока дисперсия. Използвайки импулсна симулация, беше проверен ефектът на сдвояване на положителни и отрицателни огледала с висока дисперсия. Проведено е и изследване върху увреждането на положителни и отрицателни високодисперсионни огледала под действието на фемтосекундния лазер, което обяснява образуването и развитието на високодисперсионна огледална изпъкналост под действието на фемтосекундния лазер. Очаква се положителните и отрицателните 1000 fs2 огледала с висока дисперсия да бъдат приложени към системата за усилване на чирпирания импулс съответно като етапи на усилване и компресия, за да се реализира системата за усилване на чирпирания импулс, базирана на усилване и компресия на огледала с висока дисперсия.
Фиг. 2 - 1000fs2 морфология на огледална изпъкналост с висока дисперсия
