Тънкослойните лазери с тяхното отлично качество на лъча и висока ефективност на оптичното към оптично преобразуване се използват все по-широко в области като индустриалното производство и фундаменталните научни изследвания. По-специално, ултрабързата лазерна технология с тънки секции е доказана като най-доброто решение за реализиране на голяма импулсна енергия, ултра-къса ширина на импулса и висока средна мощност, която също е известна като „перлата в короната“ на лазерната индустрия и е страхотна значение за производството от висок клас, генерирането на екстремна ултравиолетова светлина и науката за атосекундите.
Дълго време германската Trafotek ръководи изключително изследванията и производството на тънкослойни лазери и постигна голям търговски успех. През последните 4 години, с подкрепата на Националната ключова научноизследователска и развойна програма „Нови дисплеи и стратегически електронни материали“, ръководена от проф. Ruan Shuangchen от Техническия университет в Шенжен, екипът на проекта работи съвместно с Шанхайския институт за изследване на лазерна плазма на Китайската академия по инженерна физика, Jiangsu Normal University, Daqi Laser, Институт за полупроводникови изследвания на Китайската академия на науките, Jiangsu Third Generation Semiconductor Research Institute и други звена за извършване на технически изследвания и производство на тънкослойни лазери. Изследователски институт за полупроводници от трето поколение и други звена за извършване на технически изследвания, преодоляване на прецизната обработка на тънкослойни кристали, проектиране и опаковане на кристална радиаторна система, 48-система за изпомпване на инсулт, високостабилна регенеративна усилваща резонансна кухина и мулти -канално усилване и други ключови основни технологии, първите в Китай, които постигат диаметър от > 20 mm Yb: YAG тънкослойно кристално опаковане, разработването на 48-тактова помпена система от киловатов клас.
През февруари 2024 г. групата реализира голям пробив на киловатов клас ултрабързи лазери с тънки люспи в Китай: импулсна изходна максимална средна мощност от 1,075kW, ширина на импулса от 7ps, честота на повторение от 500-800kHz регулируема, максимална импулсна енергия от 2.1mJ, качество на лъча M2<1.5, spot ellipticity of 0.96, for the China's attosecond light source, extreme UV lithography, new energy vehicles, 3C electronics and chip processing, aerospace and other high-end manufacturing industries, to provide advanced laser light source.
