Наскоро Министерството на науката и технологиите "14-ти петгодишен план" национална ключова научноизследователска и развойна програма "нов дисплей и стратегически електронни материали" ключов специален "обработка на кристален тънък филм и ново поколение подготовка на устройства за усилване" Проект Началото среща и среща за обсъждане на програмата за изпълнение се проведе в технологичния университет в Шенжен.
Стартиране на национален ключов проект за научноизследователска и развойна програма Daqo Laser участва в изследването и разработването на високоенергийни тънкослойни лазери
Проектът е ориентиран към националното търсене на усъвършенстван светлинен източник с висока мощност, високоенергиен ултракъс импулсен лазер, за обработка на кристални листове и ново поколение устройство за усилване, подготовка на ключови научни и технически въпроси за извършване на изследвания, съвместни изследвания, развитие на независими права върху интелектуалната собственост и характеристики на високоенергиен лист на ултрабърза лазерна технология и индустриални приложения.
Съобщава се, че проектът се ръководи от Техническия университет в Шенжен, съвместно с Китайската академия по инженерна физика, Шанхайски институт за изследване на лазерна плазма, Нормален университет в Дзянсу, Институт за изследване на полупроводници на Китайската академия на науките, Институт за изследване на полупроводници от трето поколение в Дзянсу да предприеме.
Лазерите с тънък диск ((TDLs)) са клас потенциални лазерни източници с висока мощност. Усилващата среда е направена в много тънка дископодобна кристална структура (диаметър около 10-25 mm, дебелина около 100-300 μm), което значително подобрява ефективността на разсейване на топлината на кристала, позволявайки много висока плътност на мощността на помпата без твърде високо повишаване на температурата в кристала и ефективно подобрява качеството на лъча на изходния лазер. Тъй като концепцията за тънкослоен лазер е предложена от Adolf Giesen et al. в университета в Щутгарт, Германия, през 1994 г., тънкослойните лазери са предпочитани от местни и чуждестранни изследователски институти заради техните уникални структурни предимства и отлични изходни характеристики и са проведени редица изследвания от различни изследователски институции върху непрекъснатите и импулсна работа на тънкослойни лазери.
С предимствата на отличното качество на лъча и ефективната ефективност на оптичното към оптично преобразуване, тънкослойните лазери се превърнаха в едно от идеалните решения за следващото поколение високомощни, високоенергийни лазери с висока пикова мощност и се използва все по-широко в много области като промишлено производство и фундаментални научни изследвания. Понастоящем обаче ключовите основни технологии като прецизна обработка на тънкослойни кристали, проектиране и опаковане на системи за радиатор и подготовка на усилващи устройства са недостатъчни в Китай, което сериозно ограничава по-нататъшното развитие на високомощни тънкослойни лазери.
Експертната група се съгласи, че разработването на тънкослойни лазери е от голямо значение за развитието на китайската лазерна технология и напълно потвърди напредъка на научноизследователската и развойна дейност и индустриализацията на домашни тънкослойни лазери и основни устройства след изпълнението на проекта, и единодушно се съгласи да премине демонстрацията на плана за изпълнение. В същото време се надяваме да продължим да ускоряваме индустриализацията на тънкослойните лазери и да допринесем за висококачествената производствена индустрия на Китай.
